| 摘要 |
一种精密对位平台，其特点主要包括：一底座，包括一着置面及一构件装设面；一活动平台，设于底座的构件装设面上方一间隔高度位置处，活动平台包括一加工台面及底面；复数组导动装置，呈不同作动轴向分布型态组设连结于底座的构件装设面与活动平台的底面之间，该等导动装置系藉以驱使控制活动平台产生平移调整运动；一可控制式磁吸介面，设于底座的构件装设面与活动平台的底面之间，包括设于底座预定区域之一导磁面域以及组设定位于活动平台底面之一磁吸座，该磁吸座能够透过控制朝底座之导磁面域产生一磁吸作用力；藉此，该活动平台之定止状态能够透过可控制式磁吸介面之启动而获得加强定位效果，消除构件组合间隙与累进公差，且有效支撑对抗活动平台的侧向力、重压力及滚压作用力，进而达到增益精密对位平台的活动平台结构强度与稳固性、大幅提升加工精度品质之实用进步性。 |
