| 摘要 |
本发明揭示一种显影方法，该方法包含以下步骤：在一转盘上安置一光阻基板，该光阻基板包含一基板、形成于该基板上之一无机光阻层，及藉由曝光而形成之一潜影(latent image)；在旋转该转盘的同时，将显影液卸注于该无机光阻层之一上表面上之一显影液涂敷位置，该显影液涂敷位置远离该光阻基板之中心；以雷射光照射该无机光阻层之该上表面上之一监控位置，该监控位置不同于该显影液涂敷位置；及在连续卸注该显影液的同时，侦测由该无机光阻层之该上表面反射之零阶光及一阶光的雷射光量，并监控该一阶光与该零阶光的光量比，直至该光量比达到一预定值。 |
