发明名称 独立基板、其制造方法,以及半导体发光元件
摘要 本发明提供独立基板(free-standing substrate)、其制造方法、以及半导体发光元件。;独立基板包含有半导体层及无机粒子,且无机粒子,系包含于半导体层中。;独立基板之制造方法,依序包含下列步骤(a)至(c)。;(a)于基板上配置无机粒子之步骤。;(b)使半导体层成长之步骤。;(c)将半导体层与基板加以分离之步骤。;又,独立基板之制造方法,依序包含下列步骤(s1)、(a)、(b)以及(c)。;(s1)于基板上使缓冲层成长之步骤。;(a)于基板上配置无机粒子之步骤。;(b)使半导体层成长之步骤。;(c)将半导体层与基板加以分离之步骤。;半导体发光元件,系包含有前述的独立基板、传导层、发光层以及电极者。
申请公布号 TWI415288 申请公布日期 2013.11.11
申请号 TW095109426 申请日期 2006.03.20
申请人 住友化学股份有限公司 日本 发明人 上田和正;西川直宏;土田良彦
分类号 H01L33/00;H01L21/205 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址 日本