形成画素结构之方法

摘要

一种形成画素结构之方法，此方法利用第一导电层形成扫描线与资料线段，利用第二导电层形成源极电极、汲极电极与共同电极，并利用透明导电层，以形成画素电极与连接层，其同电极部分重叠于扫描线与资料线段，而连接层透过介电层之开口而电连接源极电极与资料线段。据此，本发明仅需利用五道光罩即可制作出屏蔽位于资料线上方之画素结构，以大幅提升画素结构之开口率。