确认于基板中的缺陷之方法及用于在微影处理中曝露基板之装置

摘要

本发明揭示确认一基板中之缺陷的方法，该方法包含：藉由一感测器来扫描该基板之一扫描范围，该感测器将一辐射光束投影于该基板上；沿着该扫描范围而量测自不同基板区域所反射之辐射之强度的分率；跨越该扫描范围而确认该经量测分率之变化；自该等变化确认在该基板中是否存在任何缺陷。