发明名称 |
基板处理设备 |
摘要 |
基板处理设备藉由均匀加热基板而在复数个基板上形成薄膜以及热处理基板。基板处理设备包括:处理腔室;晶舟,当中堆叠了基板;外部加热器,其位在处理腔室外;进给器,其移动晶舟进出处理腔室;下方加热器,其位在进给器底下;以及加热器,其位在晶舟的。 |
申请公布号 |
TWI415191 |
申请公布日期 |
2013.11.11 |
申请号 |
TW099105392 |
申请日期 |
2010.02.25 |
申请人 |
三星显示器有限公司 南韩 |
发明人 |
罗兴烈;李基龙;徐晋旭;郑珉在;洪锺元;姜有珍;张锡洛;郑胤谟;梁泰勋;苏炳洙;朴炳建;李东炫;李吉远;朴锺力;崔宝京;麦丹奇克 伊凡;白原奉;郑在琓 |
分类号 |
H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/324 |
代理机构 |
|
代理人 |
李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3 |
主权项 |
|
地址 |
南韩 |