发明名称 主驱动抛光基盘的浮离抛光装置
摘要 一种主驱动抛光基盘的浮离抛光装置,包括机座、悬浮基盘和研磨盘,悬浮基盘与加压组件连接,研磨盘通过主驱动器绕固定中心轴线转动,悬浮基盘与研磨盘相对面沿圆周方向设有楔形槽和用以放置待加工工件的加工工位,楔形槽中充满研磨液,楔形槽和加工工位间隔设置,悬浮基盘套装在研磨盘内且与研磨盘内壁有间隙,悬浮基盘中心有进料腔,悬浮基盘沿圆周方向均布径向通孔且与进料腔相通,进料管道通过储料盖与悬浮基盘连接,研磨盘内壁底面铺有研磨纸,研磨纸上开有供研磨液流出的通孔,研磨盘底部有出料口,通孔与出料口连通。本实用新型采用液体润滑消除摩擦和碰撞、研磨平稳、表面损伤小、质量高。
申请公布号 CN203266381U 申请公布日期 2013.11.06
申请号 CN201320286921.X 申请日期 2013.05.22
申请人 浙江工业大学 发明人 张利;金明生;单晓杭;孙建辉
分类号 B24B37/00(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I 主分类号 B24B37/00(2012.01)I
代理机构 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人 王利强
主权项 一种主驱动抛光基盘的浮离抛光装置,包括机座、悬浮基盘和研磨盘,所述悬浮基盘与加压组件连接,所述研磨盘通过主驱动器绕固定中心轴线转动,所述悬浮基盘与研磨盘相对面沿圆周方向设有楔形槽和用以放置待加工工件的加工工位,所述楔形槽中充满研磨液,所述楔形槽和加工工位间隔设置,其特征在于:所述悬浮基盘套装在研磨盘内且与研磨盘内壁有间隙,所述悬浮基盘中心有进料腔,所述悬浮基盘沿圆周方向均布径向通孔且与进料腔相通,进料管道通过储料盖与悬浮基盘连接,所述研磨盘内壁底面铺有抛光布,所述抛光布上开有供研磨液流出的通孔,所述研磨盘底部有出料口,所述通孔与所述出料口连通。
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