| 发明名称 | 一种多层结构高阻隔薄膜的制备方法 | ||
| 摘要 | 一种多层结构高阻隔薄膜制作的制备方法，它包括以下步骤：a.在透明基材上用等离子体增强化学气相沉积法沉积一层无机镀层；b.在1～80Pa真空状态下，利用具有刻蚀性能的气体放电形成等离子体对沉积的无机镀层进行刻蚀；c.在上述被刻蚀的无机镀层表面用等离子体增强化学气相沉积法沉积一层无机镀层；重复上述步骤，得到多层结构高阻隔薄膜。本发明方法工艺简单，设备投入低，得到的高阻隔膜表面平整，阻隔效果好，可以应用于制作高档食品、药品包装材料，也可用于有机太阳能电池或有机电致发光元件等。 | ||
| 申请公布号 | CN103382549A | 申请公布日期 | 2013.11.06 |
| 申请号 | CN201310319310.5 | 申请日期 | 2013.07.27 |
| 申请人 | 中国乐凯集团有限公司 | 发明人 | 黄尚鸿;陈强;李丽;吴常良;孟涛;曹海燕 |
| 分类号 | C23C16/30(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人 | 郭绍华;李羡民 |
| 主权项 | 一种多层结构高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于，它包括以下步骤：a.在透明基材上用等离子体增强化学气相沉积法沉积一层无机镀层；b.在1～80Pa真空状态下，利用具有刻蚀性能的气体放电形成等离子体对沉积的无机镀层进行刻蚀；c.在上述被刻蚀的无机镀层表面用等离子体增强化学气相沉积法沉积一层无机镀层；重复上述步骤，得到多层结构高阻隔薄膜。 | ||
| 地址 | 071054 河北省保定市乐凯南大街6号 | ||