发明名称 |
用于X射线的源光栅、用于X射线相衬图像的成像装置和X射线计算层析成像系统 |
摘要 |
提供用于X射线等的源光栅,所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间,并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120),所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。 |
申请公布号 |
CN102047344B |
申请公布日期 |
2013.11.06 |
申请号 |
CN200980112851.2 |
申请日期 |
2009.04.13 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
伊藤英之助;市村好克;中村高士;今田彩 |
分类号 |
G21K1/02(2006.01)I;G21K7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G21K1/02(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
李颖 |
主权项 |
一种用于X射线相衬成像的源光栅,其中所述源光栅包括多个子光栅,所述多个子光栅是通过以恒定的间隔周期性地布置各自具有屏蔽X射线的厚度的突出部分而被形成的;以及所述多个子光栅被多层地层叠,其特征在于所述多个子光栅在层平面中被相互地偏移;以及所述源光栅具有这样的结构:在该结构中,使得作为由周期性地布置的突出部分之间的间隔形成的X射线透射区域的孔径的宽度比子光栅中的每一个的孔径宽度窄。 |
地址 |
日本东京 |