| 发明名称 | 使用经氨基硅烷处理的研磨剂颗粒的抛光组合物和方法 | ||
| 摘要 | 本发明方法包括用本发明抛光组合物对基材进行化学-机械抛光，该抛光组合物包含液体载体、阳离子型聚合物、酸和经氨基硅烷化合物处理的研磨剂颗粒。 | ||
| 申请公布号 | CN101802125B | 申请公布日期 | 2013.11.06 |
| 申请号 | CN200880107342.6 | 申请日期 | 2008.09.19 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 杰弗里·戴萨德;斯里拉姆·安朱尔;史蒂文·格鲁姆比恩;丹妮拉·怀特;威廉·沃德 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 用于抛光基材的化学‑机械抛光组合物，其包含：(a)液体载体，(b)悬浮于所述液体载体中的研磨剂，其中所述研磨剂包括胶体二氧化硅颗粒，所述胶体二氧化硅颗粒具有经氨基硅烷化合物处理的表面，(c)至少一种具有1至4的pKa的酸性组分，和(d)阳离子型聚合物；其中所述抛光组合物具有1至3.5的pH。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||