光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法

摘要

本发明提供光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法，利用该光掩模能够可靠且精密地转印微细图案。光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案具有透光部、形成有曝光光的一部分透射的半透光膜的半透光部以及形成有遮光性的膜的遮光部，其中，半透光膜相对于在转印用图案的转印中使用的曝光光的代表波长具有2%～60%的透射率，且具有90°以下的相移作用，半透光部与遮光部的边缘邻接，且形成为无法由曝光装置析像的宽度。

主权项

一种光掩模，该光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案具有透光部、形成有曝光光的一部分透射的半透光膜的半透光部以及形成有遮光性的膜的遮光部，所述光掩模的特征在于，所述半透光膜相对于在所述转印用图案的转印中使用的曝光光的代表波长具有2%～60%的透射率，且具有90°以下的相移作用，所述半透光部与所述遮光部的边缘邻接，且形成为无法由曝光装置析像的宽度。