发明名称 光刻设备和器件制造方法
摘要 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。本发明还提供一种配置成确定衬底的水平高度的水平传感器,包括:投影单元,用以将具有基本上周期性的光强度的测量束投影到衬底上;和检测单元,布置用以接收在衬底上被反射之后的测量束,所述检测单元包括:检测光栅,布置成接收被反射的测量束,其中所述检测光栅包括总长基本上等于投影到检测光栅的所述测量束的周期长度的三个或更多个分段部分,其中所述三个或更多个分段部分配置成将被反射的测量束分成三个或更多个反射测量束部分,和三个或更多个检测器,每一个布置用以接收所述三个或更多个测量束部分中的一个,和处理单元,用以基于由三个或更多个检测器接收的所述测量束部分计算水平高度。
申请公布号 CN102193327B 申请公布日期 2013.11.06
申请号 CN201110048263.6 申请日期 2011.02.25
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 A·J·登鲍埃夫
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G01B11/02(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种配置用于确定衬底的水平高度的水平传感器,包括:投影单元,用以将测量束投影到衬底上,所述投影单元包括:光源,用以提供测量束,和投影光栅,其布置用以接收所述测量束并赋予所述测量束基本上周期性的光强度,检测单元,布置用以接收在衬底上反射之后的测量束,所述检测单元包括:检测光栅,布置成接收被反射的测量束,其中所述检测光栅包括总长基本上等于投影到检测光栅上的所述测量束的周期长度的三个或更多个分段部分构成的至少一个阵列,并且其中所述三个或更多个分段部分配置成将被反射的测量束分成三个或更多个反射测量束部分,和三个或更多个检测器,每一个布置用以接收所述三个或更多个测量束部分中的一个,和处理单元,用以基于由三个或更多个检测器接收的所述测量束部分计算水平高度。
地址 荷兰维德霍温