发明名称 |
Ti合金氮化物选择性吸收膜系及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种Ti合金氮化物选择性吸收膜系。该吸收膜系包括:金属衬底、在衬底上依次沉积的Ti合金氮化物选择性吸收膜层、减反射介质膜层、SiO2保护膜层。本发明的吸收膜系对太阳能的吸收率大于97%,发射率小于3%,具有光热转换效率高和集热效率好的特点。本发明的吸收膜系在保持高吸收率和低发射率的前提下,通过调节Ti合金成份可以满足太阳能热水器、太阳能空调等光热产品的多样化和个性化需求。由于本发明Ti合金氮化物选择性吸收膜系结构简单,不涉及氧元素沉积问题,具有制备工艺简单、使用靶材数量少的特点,因此可以极大提高生产效率,降低工业大规模生产的成本,对太阳能选择性吸热膜领域的发展有着十分重要的意义。 |
申请公布号 |
CN103383155A |
申请公布日期 |
2013.11.06 |
申请号 |
CN201310251610.4 |
申请日期 |
2013.06.21 |
申请人 |
中国科学院上海技术物理研究所 |
发明人 |
陆卫;王晓芳;俞立明;王少伟;陈飞良;刘星星;简明;陈效双 |
分类号 |
F24J2/48(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I |
主分类号 |
F24J2/48(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
郭英 |
主权项 |
一种Ti合金氮化物太阳能选择性吸收膜系,包括金属衬底(1)、Ti合金氮化物薄膜(2)、氮化硅或氮化铝或其组合薄膜(3)和二氧化硅薄膜(4),其特征在于:所述的膜系结构为:在金属衬底(1)上依次沉积Ti合金氮化物薄膜(2)、氮化硅或氮化铝或其组合薄膜(3)和二氧化硅薄膜(4);所述的金属衬底(1)是Cu箔片,Al箔片,或者是表面沉积一层Cu薄膜的Al、Ni、玻璃或不锈钢箔片,或者是表面沉积一层红外高反射的Ag薄膜的Al、Ni、不锈钢或Cu箔片;所述的Cu薄膜的厚度范围为50‑350nm,其优选范围为100‑150nm;所述的Ag薄膜厚度范围为8‑20nm,其优选范围为10‑15nm;所述的Ti合金氮化物薄膜(2)的厚度范围为80‑120nm,其优选范围为95‑105nm,膜层材料为TiAlN、TiSiN及TiAlSiN中的一种或几种,其中Ti、Al或Si、N三种元素的原子比为Ti:Al、Si:N=0.2~0.5:0.5~0.8:1.0,优选的原子比为Ti:Al、Si:N=0.3~0.4:0.6~0.7:1.0;所述的氮化硅或氮化铝或其组合薄膜(3)为Si3N4或AlN或其组合,厚度范围为20‑50nm,其优选范围为25‑35nm;所述的二氧化硅薄膜(4)厚度范围为50nm‑150nm,其优选范围为70‑90nm范围内。 |
地址 |
200083 上海市虹口区玉田路500号 |