| 发明名称 | 光扩散元件的制造方法、光扩散元件、与带光扩散元件的偏振板及液晶显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光扩散元件的制造方法，其可低成本且高生产率地制造雾度值高、具有强扩散性且抑制反向散射的光扩散元件。本发明的光扩散元件的制造方法包括如下工序：使含有树脂成分的前体及超微粒成分的基质形成材料与光扩散性微粒相接触的工序；使该前体的至少一部分渗透至该光扩散性微粒的内部的工序；和使已渗透至该光扩散性微粒的内部的前体及未渗透至该光扩散性微粒的前体同时发生聚合而形成含有树脂成分及超微粒成分的基质，同时在该光扩散性微粒的表面附近内部形成浓度调节区的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN102356335B | 申请公布日期 | 2013.11.06 |
| 申请号 | CN201080012533.1 | 申请日期 | 2010.03.15 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 渊田岳仁;武本博之;首藤俊介;宫武稔 |
| 分类号 | G02B5/02(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 张宝荣 |
| 主权项 | 一种光扩散元件的制造方法，其包括如下工序：使含有树脂成分的前体及超微粒成分的基质形成材料与光扩散性微粒相接触的工序；使该前体的至少一部分渗透至该光扩散性微粒的内部的工序；和使已渗透至该光扩散性微粒的内部的前体及未渗透至该光扩散性微粒的前体同时发生聚合而形成含有树脂成分及超微粒成分的基质，同时在该光扩散性微粒的表面附近内部形成浓度调节区的工序；在nA表示基质的树脂成分的折射率，nB表示超微粒成分的折射率，nP表示光扩散性微粒的折射率时，|nP‑nA|为0.01～0.10，|nP‑nB|为0.10～1.50，所述树脂成分含有与光扩散性微粒为同系的化合物。。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||