金属用研磨液

摘要

【课题】提供一种具有迅速的铜研磨速度及良好的铜/;钽研磨选择性，再者凹状扭曲少且可使平坦性提升之研磨液。;【解决手段】一种金属用研磨液，其特征系用于半导;体积体电路用基板之制造步骤中的化学机械性平坦化，且含有下述通式(I)所示化合物的金属用研磨液(通式(I)中，Ra~Rd系表示各自独立地含有氢原子、羧基、羟基、胺基、烷基、芳基、杂环基、硝基、卤素原子、磺醯基、或此等为部分构造之取代基。R1系表示含有羧基、羟基、胺基、烷基、芳基、杂环基、或此等之基为部分构造之取代基)。;通式(I)