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发明名称
半导体制造用反应炉之气体分离板(二)
摘要
【物品用途】;本创作系一种对半导体基板表面依序供给复数反应气体而制膜的半导体制造用反应炉之气体分离板。;【设计说明】;本创作具有圆形之中心部,中心部外侧对向形成有形状略呈扇形之板体,该板体两侧形成有二道圆弧,于板体上靠两圆弧侧分别设有相互分离之两圆型凹孔。从该板体的一侧观之,该中心部处系形成有二个高度相异且大小相异的两同心圆状形凹部,藉此以呈现出不同的视觉感受。;使用状态参考剖面图系表示于本创作置于半导体制造用反应炉内部的状态。
申请公布号
TWD156910
申请公布日期
2013.11.01
申请号
TW100301722D01
申请日期
2011.04.14
申请人
东京威力科创股份有限公司 日本
发明人
本间学;菱谷克幸
分类号
15-99
主分类号
15-99
代理机构
代理人
林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项
地址
日本
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