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发明名称
一种用于等离子体处理装置的聚焦环
摘要
一种应用于等离子体处理装置的聚焦环,聚焦环设置于载片台上,包围位于载片台上的基板,其中,聚焦环的上表面上有若干个突起,突起在竖直方向上的高度至少高于基板的下表面。本创作提供的聚焦环能够有效防止基板滑出载置台,并且造价低功耗小,使用方便有效,与机台的相容性好。
申请公布号
TWM464460
申请公布日期
2013.11.01
申请号
TW101225587
申请日期
2012.12.28
申请人
中微半导体设备(上海)有限公司 中国
发明人
佩尔斯 凯文
分类号
C23C8/00
主分类号
C23C8/00
代理机构
代理人
林志青 台北市信义区松隆路102号18楼之1
主权项
地址
中国
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