发明名称 |
Verfahren zum Behandeln von zumindest einem Substrat in einem flüssigen Medium |
摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zum Behandeln von zumindest einem Substrat (15), insbesondere von Wafern, in einem flüssigen Medium (3), wird in einem ersten Schritt das Substrats (15) in dem flüssigen Medium (3) angehoben, bis das Substrat (15) zumindest teilweise aus dem flüssigen Medium (3) ausgehoben ist, und in einem zweiten Schritt an zumindest einer aus dem flüssigen Medium (3) herausragenden Stelle übernommen.</p> |
申请公布号 |
DE102013102545(A1) |
申请公布日期 |
2013.10.31 |
申请号 |
DE201310102545 |
申请日期 |
2013.03.13 |
申请人 |
AWT ADVANCED WET TECHNOLOGIES GMBH |
发明人 |
HAUGER, HANS;SCHULZ, WERNER |
分类号 |
H01L21/302;H01L21/306;H01L21/68 |
主分类号 |
H01L21/302 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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