发明名称 |
Verfahren zum Steuern eines elektrochemischen Ätzprozesses und System mit einer elektrochemischen Ätzanlage |
摘要 |
Verfahren mit: Entfernen von Material von Metallstrukturen, die auf einem ersten Substrat gebildet sind, mittels eines elektrochemischen Ätzprozesses, der in einer elektrochemischen Ätzanlage ausgeführt wird, wobei die elektrochemische Ätzanlage eine Stromquelle aufweist; Einrichten eines elektrischen Stromflusses zwischen dem Substrat und einer Elektrodenanordnung während zumindest eines Teils des elektrochemischen Ätzprozesses unter Anwendung der Stromquelle; Erhalten eines Statussignals während des Bearbeitens des ersten Substrats, wobei das Statussignal ein dynamisches Verhalten mindestens eines Anlagenparameters während des elektrochemischen Ätzprozesses repräsentiert, wobei der mindestens eine Anlagenparameter zumindest einen Parameter, der sich auf den elektrischen Stromfluss bezieht, umfasst; Abschätzen eines aktuellen Anlagenstatus auf der Grundlage des Statussignals durch Extrahieren mehrerer Schlüsselwerte aus dem Statussignal und Vergleichen der Schlüsselwerte mit Referenzschlüsselwerten, wobei die Referenzschlüsselwerte auf der Grundlage von elektrochemischen Ätzprozessen erhalten wurden, die zuvor für andere Substrate als das erste Substrat ausgeführt wurden; und Freigeben der elektrochemischen Ätzanlage zum Bearbeiten eines weiteren Substrats auf der Grundlage des abgeschätzten Anlagenstatus. |
申请公布号 |
DE102006062037(B4) |
申请公布日期 |
2013.10.31 |
申请号 |
DE20061062037 |
申请日期 |
2006.12.29 |
申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES, INC. |
发明人 |
SIURY, KERSTIN;RACKWITZ, NIELS;SCHNAPKE, JOERN;KUECHENMEISTER, FRANK |
分类号 |
H01L21/3063;C25F3/00;H01L21/3213;H01L21/60 |
主分类号 |
H01L21/3063 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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