| 发明名称 | 遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供不产生针孔等的高品质的遮光层形成用感光性基材组合物。本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法的特征在于，将重均分子量为10000～50000的聚合物的表面活性剂成分(H)稀释至2.5～10质量％后进行过滤，使过滤后的该表面活性剂成分(H)、感光性基材成分(A)、颜料成分(G)和有机溶剂成分(S)分散。上述过滤优选用孔径为1μm以下的PTFE膜进行。 | ||
| 申请公布号 | CN103376650A | 申请公布日期 | 2013.10.30 |
| 申请号 | CN201310135839.1 | 申请日期 | 2013.04.18 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 中绪卓;盐田大;石川达郎 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法，其特征在于，将作为重均分子量为10000～50000的聚合物的表面活性剂成分(H)稀释至2.5～10质量％后进行过滤，使过滤后的该表面活性剂成分(H)、感光性基材成分(A)、颜料成分(G)和有机溶剂成分(S)分散。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||