用于三维基底的高密度掩模及其制备方法

摘要

本发明公开了一种用于加工成形用于非平面或三维基底的高密度掩模的方法，该方法利用其中机加工有一个或多个精密成形件的芯轴。一旦具有一个或多个成形件的芯轴被加工成形，即可在所述芯轴上构造一个或多个掩模坯料。可由一个或多个掩模坯料切割出最终掩模。

主权项

一种用于制备结合非平面基底使用的一个或多个阴影掩模的方法，所述方法包括以下步骤：加工成形芯轴，所述芯轴包括机加工在其中的一个或多个成形件，所述一个或多个成形件对应待掩蔽的非平面基底的形状；在所述芯轴中的所述一个或多个成形件中形成一个或多个阴影掩模坯料；从所述芯轴移除所述一个或多个阴影掩模坯料；以及将预定图案机加工到所述一个或多个阴影掩模坯料中以形成一个或多个阴影掩模，所述预定图案包括显著小于所述一个或多个阴影掩模的尺寸的结构。