| 发明名称 | 形成开口的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种形成开口的方法。首先提供一基板，然后在基板上依次形成抗反射层以及光致抗蚀剂层。接着在光致抗蚀剂层中形成第一开口，以及在抗反射层中形成第二开口。后续对第二开口进行一平滑处理步骤。最后通过第一开口与第二开口以图案化基板，以在基板中形成第三开口。 | ||
| 申请公布号 | CN103377885A | 申请公布日期 | 2013.10.30 |
| 申请号 | CN201210129107.7 | 申请日期 | 2012.04.27 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 陈逸男;徐文吉;叶绍文;刘献文 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人 | 江耀纯 |
| 主权项 | 一种形成开口的方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上依次形成抗反射层以及光致抗蚀剂层；在所述光致抗蚀剂层中形成第一开口，以及在所述抗反射层中形成第二开口；对所述第二开口进行平滑处理步骤；以及通过所述第一开口与所述第二开口以图案化所述基板，以在所述基板中形成第三开口。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||