发明名称 垂直沟道晶体管
摘要 本发明公开了一种垂直沟道晶体管,包括基底,包括至少一对相对设置的第一凹槽和第二凹槽;一埋入式位线,设置于第一凹槽的底部;第一源/漏极区,电连接于埋入式位线;第二源/漏极区,紧邻第一凹槽的顶部;一绝缘栅极导线,埋入第二凹槽的底部;一外延层,设置于第二凹槽内且紧邻于绝缘栅极导线;一扩散区,相对于外延层而设置,其中外延层和扩散区间夹有第一绝缘层;前栅极,位于基底的第一侧面上;及后栅极,位于基底相对于第一侧面的第二侧面上。
申请公布号 CN103378127A 申请公布日期 2013.10.30
申请号 CN201210107533.0 申请日期 2012.04.13
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 陈逸男;徐文吉;叶绍文;刘献文
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I 主分类号 H01L29/06(2006.01)I
代理机构 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人 江耀纯
主权项 一种垂直沟道晶体管,其特征在于,包括:基底,包括至少一对相对设置的第一凹槽和第二凹槽;埋入式位线,设置于所述第一凹槽的底部;第一源/漏极区,电连接于所述埋入式位线;第二源/漏极区,紧邻所述第一凹槽的顶部;绝缘栅极导线,埋入所述第二凹槽的底部;半导体层,设置于所述第二凹槽内并且紧邻于所述绝缘栅极导线;相对于外延层而设置的扩散区,其中所述外延层和所述扩散区间夹有第一绝缘层;前栅极,位于所述基底的第一侧面上;及后栅极,位于所述基底相对于所述第一侧面的第二侧面上。
地址 中国台湾桃园县
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