高透射率的钒基多层超晶格薄膜及其制备方法

摘要

本发明涉及高透射率的钒基多层超晶格薄膜及其制备方法，属于薄膜材料领域。所述的超晶格薄膜是在基片上交替沉积VO2薄膜上和金属氧化物薄膜。本发明与现有技术相比，其显著优点为：（1）操作简单，工艺时间短，便于控制，适宜于工业化生产；（2）生长的薄膜厚度能精确控制；（3）生长的薄膜表面平整，分布均匀；（4）生长的薄膜透射率高，能更好的应用于智能窗、光储存、光电开光等领域。

主权项

一种高透射率的钒基多层超晶格薄膜，其特征在于所述的多层超晶格薄膜是在基片上交替沉积VO2薄膜和金属氧化物薄膜，即先以钒为靶材溅射3‑5分钟，再以掺杂其它金属Ti、W、Zn、Mo或Cu中的一种或几种为靶材溅射3‑5分钟，交替沉积……；沉积完毕后在300℃至700℃间退火30‑60分钟得到多层超晶格薄膜。