接触孔的制作方法

摘要

本发明公开了一种接触孔的制作方法。首先提供衬底，衬底上包括层间介质层；在层间介质层上形成抗反射层；在抗反射层上涂布光刻胶层；进行光刻工艺，在光刻胶层中形成第一开口；进行第一次干蚀刻工艺，经由所述第一开口蚀刻抗反射层及层间介质层，形成具有第一深度的沟槽；将所述光刻胶层中的第一开口缩小成为第二开口；以及进行第二次干蚀刻工艺，经由所述第二开口蚀刻所述层间介质层，形成具有第二深度的通孔。优点在于：仅需要进行单次的光刻工艺，配合一次的RELACS光刻胶扩大以及两次干蚀刻工艺，就可以形成接触孔，因此步骤上较为简单，而且省略了一道光掩膜，成本因此降低许多。

主权项

一种接触孔的制作方法，其特征在于，包括：提供衬底，所述衬底上包括层间介质层；在所述层间介质层上形成抗反射层；在所述抗反射层上涂布光刻胶层；进行光刻工艺，在所述光刻胶层中形成第一开口；进行第一次干蚀刻工艺，经由所述第一开口蚀刻所述抗反射层及所述层间介质层，形成具有第一深度的沟槽；将所述光刻胶层中的所述第一开口缩小成为第二开口；以及进行第二次干蚀刻工艺，经由所述第二开口蚀刻所述层间介质层，形成具有第二深度的通孔。