| 发明名称 | 接触孔的制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种接触孔的制作方法。首先提供衬底；在所述衬底上形成第一硬掩膜以及第二硬掩膜；在第二硬掩上涂布光刻胶层；进行光刻工艺，在所述光刻胶层中形成开口；进行第一次干蚀刻工艺，经由所述开口蚀刻第二硬掩膜，形成第一孔洞；将所述第二硬掩膜中的第一孔洞缩小成为第二孔洞；以及进行第二次干蚀刻工艺，经由所述第二孔洞蚀刻所述第一硬掩膜，形成第三孔洞。 | ||
| 申请公布号 | CN103377985A | 申请公布日期 | 2013.10.30 |
| 申请号 | CN201210112848.4 | 申请日期 | 2012.04.17 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 陈逸男;徐文吉;叶绍文;刘献文 |
| 分类号 | H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/768(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人 | 江耀纯 |
| 主权项 | 一种接触孔的制作方法，其特征在于，包括：提供衬底；在所述衬底上形成第一硬掩膜以及第二硬掩膜；在所述第二硬掩膜上涂布光刻胶层；进行光刻工艺，在所述光刻胶层中形成开口；进行第一次干蚀刻工艺，经由所述开口蚀刻所述第二硬掩膜，形成第一孔洞；将所述第二硬掩膜中的所述第一孔洞缩小成为第二孔洞；以及进行第二次干蚀刻工艺，经由所述第二孔洞蚀刻所述第一硬掩膜，形成第三孔洞。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||