| 发明名称 | 光阻组合物及其制备方法、彩膜基板和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种光阻组合物及其制备方法、一种彩膜基板和一种显示装置。所述光阻组合物，包括质量分数为1%～10%的微胶囊，所述微胶囊的囊壁包括碱不溶性树脂，所述微胶囊的囊芯包括：质量分数为10%～60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物；质量分数为10%～50%的光聚合单体；质量分数为10%～70%的第一黑色颜料色浆；质量分数为0.1%～10%的第一光致聚合引发剂；质量分数为0.1%～5%的偶联剂。采用本发明的技术方案，可以实现黑矩阵破损处的修补，大大提高产品的良率。 | ||
| 申请公布号 | CN103376657A | 申请公布日期 | 2013.10.30 |
| 申请号 | CN201310295781.7 | 申请日期 | 2013.07.15 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 杨同华;吴洪江;黄常刚;袁剑峰 |
| 分类号 | G03F7/027(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 杜秀科 |
| 主权项 | 一种光阻组合物，其特征在于，包括质量分数为1%～10%的微胶囊，所述微胶囊的囊壁包括碱不溶性树脂，所述微胶囊的囊芯包括：质量分数为10%～60%的可进行光固化的不饱和树脂低聚物；质量分数为10%～50%的光聚合单体；质量分数为10%～70%的第一黑色颜料色浆；质量分数为0.1%～10%的第一光致聚合引发剂；质量分数为0.1%～5%的偶联剂。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||