| 发明名称 | 一种LPCVD系统法兰炉门 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开一种LPCVD系统法兰炉门，包括炉门框架、活动设于框架上的炉门板、设于炉门板内面上的密封圈，所述框架上还设有水冷循环系统，包括冷却水进水管、冷却水出水管以及布置于炉门框架内且分别与冷却水进水管和冷却水出水管相连的冷却通道。采用该炉门具有密封性能好、耐高温、可以模拟在工艺要求的条件下进行炉温的拉测、产品进出炉比较方便和稳妥等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN203256329U | 申请公布日期 | 2013.10.30 |
| 申请号 | CN201320259302.1 | 申请日期 | 2013.05.13 |
| 申请人 | 上海微世半导体有限公司 | 发明人 | 丁波;陈瀚;侯金松;程国军 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01)I;F27D1/18(2006.01)I;F27D1/12(2006.01)I;F27D21/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人 | 张坚 |
| 主权项 | 一种LPCVD系统法兰炉门，包括炉门框架、活动设于框架上的炉门板、设于炉门板内面上的密封圈，其特征在于：所述框架上还设有水冷循环系统，包括冷却水进水管、冷却水出水管以及布置于炉门框架内且分别与冷却水进水管和冷却水出水管相连的冷却通道。 | ||
| 地址 | 201501 上海市金山区枫泾镇环东一路65弄3号2704室 | ||