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<p>Ein optisches System (10) für eine Anlage zur Bearbeitung von Dünnfilmschichten wird vorgestellt. Das optische System (10) umfasst mindestens zwei Lichtleitfasern (20) zum Leiten von Licht, wobei jede der Lichtleitfasern (20) einen rechteckförmigen Querschnitt mit einer kurzen Faserachse (x) und einer langen Faserachse (y) aufweist. Das optische System (10) umfasst ferner eine optische Einkopplungseinrichtung (22) zum Einkoppeln des Lichts in die Lichtleitfasern (20) und eine optische Abbildungseinrichtung (24) zur Erzeugung einer mit aus den Lichtleitfasern (20) austretenden Lichtstrahlen (14'; 40; 40a, 40b) gebildeten, eine lange Achse und eine kurze Achse aufweisenden Beleuchtungslinie (44) in einer Beleuchtungsebene (50). Die optische Abbildungseinrichtung (24) umfasst eine anamorphotische Optik (42), die dazu eingerichtet ist, die aus den Lichtleitfasern (20) austretenden Lichtstrahlen (40a, 40b) bezüglich der kurzen Faserachse (x) auf die kurze Achse der Beleuchtungslinie (44) zu fokussieren und bezüglich der langen Faserachse (y) in der Beleuchtungslinie (44) homogenisiert zu überlagern.</p> |
