发明名称 Procedimiento y dispositivo para el tratamiento de substratos
摘要 Procedimiento para el tratamiento de substratos, particularmente para la fabricación de módulos fotovoltaicos, dondeen una etapa del procedimiento se eliminan capas resistentes de los substratos mediante pulverizaciones ohumedecimiento con ayuda de una solución de proceso (33) introducida en un ciclo, donde los substratos en primerlugar se humedecen o rocían en un módulo de extracción principal (21) y luego en un módulo de extracción sucesivo(23) con la solución de proceso y la solución de proceso se acumula en recipientes bajo de los módulos, donde para elmódulo de extracción principal y el módulo de post-extracción o sucesivo respectivamente al menos se prevé unrecipiente y se separan el o los recipientes del módulo de extracción principal del o de los recipientes de los módulos deextracción sucesivos, caracterizado por el hecho de que - la solución de proceso en el módulo de extracción principal se conserva en un primer (48, 48') y un segundorecipiente y en este caso se conduce en primer lugar al segundo recipiente (49), que está separado del primerrecipiente por una pared (51, 51'), que es permeable al fluido a través de rebajes o similares en una zona debajo deun nivel de la superficie de solución del proceso situada ahí, - la solución de proceso es retirada del primer recipiente y se reconduce al ciclo para la pulverización ohumedecimiento de los substratos, - se mueve espuma en el segundo recipiente (49) en la superficie de la solución de proceso sobre una pared lateral(50) del recipiente en un baño de espuma (59) separado dispuesto al lado y - la espuma caída conjuntamente o solución de proceso de limpieza del baño de espuma (59) se retira o se bombeay se reconduce al primer recipiente (48, 48').
申请公布号 ES2426567(T3) 申请公布日期 2013.10.24
申请号 ES20100728247T 申请日期 2010.07.05
申请人 GEBR. SCHMID GMBH 发明人 KAPPLER, HEINZ;LAMPPRECHT, JOERG
分类号 H01L21/67;G03F7/30;G03F7/42 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人
主权项
地址