| 发明名称 | 用于化学气相沉积的方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种在基片(20)上沉积化合物半导体的方法，包括将气体反应物(30，34)导向到包含基片(20)的反应室(10)内，选择性地提供能量(31a，31b)至其中一种气体反应物(30，34)，以便传递足够的能量来活化该反应物，但该能量不足以使该反应物产生分解，随后在基片(20)表面上分解反应物，以便与其它反应物反应。优选的能量源(31a，31b)为微波或红外辐射，实施这些方法的反应器也在此公开。 | ||
| 申请公布号 | CN102239277B | 申请公布日期 | 2013.10.23 |
| 申请号 | CN200980148688.5 | 申请日期 | 2009.10.02 |
| 申请人 | 威科仪器有限公司 | 发明人 | E·A·阿穆尔;W·E·奎因;J·曼根 |
| 分类号 | C23C16/30(2006.01)I;C23C16/48(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 曾旻辉;何冲 |
| 主权项 | 一种在基片上沉积化合物半导体的方法，其特征在于，包括以下步骤：(a)在反应室内保持基片；(b)在反应室内引导多种气体反应物，将其以基本分离的气流的形式、沿下游方向从进气口导向基片的表面，使得多种气体反应物在基片表面的边界层上相互混合，所述多种气体反应物在所述基片的所述表面上相互反应，从而在所述基片上形成沉积物；(c)在所述进气口的下游和所述基片的上游处，选择性地将能量提供给所述多种气体反应物的其中之一，以便传递足以激活所述多种气体反应物的所述其中之一、但又不足以使所述多种气体反应物的所述其中之一分解的能量；且(d)使所述多种气体反应物在所述基片的所述表面处分解。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||