发明名称 |
用于在激光烧蚀期间保护光线光学组件的系统 |
摘要 |
在带电粒子束附近执行激光烧蚀、同时防止用于执行烧蚀的设备的光线光学组件被涂覆有产生于烧蚀过程的残渣的方法和设备。按照本发明的优选实施例,保护透明掩体用于保护激光器光学组件。优选掩体可在无需中断样本室中的真空的情况下更换或再定位,并且不会对不合需要的充电效应特别敏感。 |
申请公布号 |
CN103358035A |
申请公布日期 |
2013.10.23 |
申请号 |
CN201310192260.9 |
申请日期 |
2013.03.28 |
申请人 |
FEI公司 |
发明人 |
M·斯特劳 |
分类号 |
B23K28/02(2006.01)I;B23K26/12(2006.01)I;B23K26/16(2006.01)I |
主分类号 |
B23K28/02(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
俞华梁;王忠忠 |
主权项 |
一种用于在真空室中执行激光烧蚀的设备,包括:激光器部件,具有光源和用于产生聚焦激光束的聚焦光学器件;所述聚焦光学器件包括用于将所述激光束聚焦到所述真空室中的样本上的物镜;以及由透明导电材料所形成的可更换保护掩体,所述保护掩体放置在所述样本与物镜之间,使得所述聚焦激光束经过所述保护掩体的所述透明导电材料,并且使得在所述样本的激光烧蚀期间朝所述物镜所喷出的残渣撞击所述保护掩体而不是所述物镜。 |
地址 |
美国俄勒冈州 |