发明名称 基板处理装置
摘要 本发明的基板处理装置,包括:循环路,包括贮存磷酸水溶液的处理槽、输送磷酸水溶液的循环泵、对磷酸水溶液进行加热的循环用加热器、对磷酸水溶液进行过滤的过滤器,使从处理槽排出的磷酸水溶液依次流过循环泵、循环用加热器、过滤器,并且使磷酸水溶液从过滤器返回上述处理槽中;分支管,在循环用加热器与过滤器之间从循环路分支,从循环路中提取磷酸水溶液;浓度测定部,与分支管相连通连接,通过电位差测定法测定磷酸水溶液中的硅浓度。
申请公布号 CN103364478A 申请公布日期 2013.10.23
申请号 CN201310055320.2 申请日期 2013.02.21
申请人 大日本网屏制造株式会社 发明人 高桥朋宏;荒木浩之
分类号 G01N27/60(2006.01)I;G01N1/28(2006.01)I 主分类号 G01N27/60(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 董雅会;郭晓东
主权项 一种基板处理装置,其特征在于,包括:循环路,包括贮存磷酸水溶液的处理槽、输送磷酸水溶液的循环泵、对磷酸水溶液进行加热的循环用加热器、对磷酸水溶液进行过滤的过滤器,用于使从上述处理槽排出的磷酸水溶液依次流过上述循环泵、上述循环用加热器、上述过滤器,并且使磷酸水溶液从上述过滤器返回上述处理槽中;分支管,在上述循环用加热器与上述过滤器之间从上述循环路分支,用于从上述循环路提取磷酸水溶液;浓度测定部,与上述分支管相连通连接,通过电位差测定法测定磷酸水溶液中的硅浓度。
地址 日本国京都府京都市