发明名称 |
曝光装置以及图像形成装置 |
摘要 |
本发明涉及曝光装置以及图像形成装置,其目的在于提供一种能够改善机械性外来不利影响抵抗强度的曝光装置。本发明的曝光装置具备光学框体(2300),该光学框体(2300)的底板(2301)表面和底板(2301)背面上分别形成多条以等间隔排设的漕(2307a),底板表面的漕(2307a)的中心位置与底板背面的漕(2307a)的中心位置之间互相偏离,偏离量为漕间间隔的1/2倍。对于薄型化光学框体,该结构不仅不会带来重量增加和原料费用上升,而且有利于提高光学框体的抗振性能,进而改善光扫描装置的机械性外来不利影响抵抗强度。 |
申请公布号 |
CN103364946A |
申请公布日期 |
2013.10.23 |
申请号 |
CN201310096399.3 |
申请日期 |
2013.03.25 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
久保信秋;鸨田才明;酒井浩司;渡边直人;中岛智宏;石山赖史 |
分类号 |
G02B26/10(2006.01)I;G03G15/04(2006.01)I |
主分类号 |
G02B26/10(2006.01)I |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 |
代理人 |
赵蓉民 |
主权项 |
一种曝光装置,其中包括光源、将该光源发射的光引导到被曝光装置的光学系统、以及以多块板形部件构成并用于保持所述光源和所述光学系统的光学框体,其特征在于,在所述光学框体中的至少一块板形部件的至少一部分表面以及一部分背面上分别形成多条以预定间隔排设的漕,在该多条漕的排设方向上,所述表面上形成的所述漕的中心位置与所述背面上形成的所述漕的中心位置互相偏离。 |
地址 |
日本东京 |