发明名称 |
具有共享泵的真空腔室 |
摘要 |
本揭示案的实施例大体关于真空处理腔室,这些真空处理腔室具有不同泵送要求且经由单个前级真空管线连接至共享泵送系统。在一个实施例中,真空处理腔室包括耦接至单个高传导前级真空管线的高传导泵送管道及低传导泵送管道。在另一实施例中,多个非平衡腔室组可藉由最终的前级真空管线连接至公共泵送系统。 |
申请公布号 |
CN103370768A |
申请公布日期 |
2013.10.23 |
申请号 |
CN201280008689.1 |
申请日期 |
2012.02.29 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
A·帕尔;M·J·萨里纳斯;J·A·里;P·B·路透;I·优素福 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
徐伟 |
主权项 |
一种处理基板的系统,包含:一腔室主体,所述腔室主体具有隔离于一第二基板移送室的一第一基板移送室;一真空泵;一高传导前级真空管线,所述高传导前级真空管线耦接至所述泵;一高传导泵送管道,所述高传导泵送管道耦接所述前级真空管线至所述第一基板移送室;以及一低传导泵送管道,所述低传导泵送管道耦接所述前级真空管线至所述第二基板移送室。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |