发明名称 HMG-CoA还原酶抑制剂关键中间体的合成方法
摘要 本发明公开了一种HMG-CoA还原酶抑制剂关键中间体的合成方法,它以廉价易得的(S)-3-羟基-4-取代丁腈为起始原料,经过Blaise反应、还原、羟基保护、氧化四步反应制得HMG-CoA还原酶抑制剂关键中间体,反应过程操作简便,各步产物易于分离纯化,无需硅胶柱进行纯化分离,收率80%以上,制得的中间体有较高化学纯度及光学纯度(经测定,化学纯度≥99.4%,光学纯度≥99.3%ee),可方便的用于二羟基酸HMG-CoA还原酶抑制剂的工业化生产,经济效益显著。
申请公布号 CN103360384A 申请公布日期 2013.10.23
申请号 CN201310326726.X 申请日期 2013.07.30
申请人 浙江京新药业股份有限公司 发明人 朱建荣;华长华;陈见阳
分类号 C07D417/12(2006.01)I;C07D405/12(2006.01)I 主分类号 C07D417/12(2006.01)I
代理机构 杭州新源专利事务所(普通合伙) 33234 代理人 李大刚
主权项 1.HMG-CoA还原酶抑制剂关键中间体的合成方法,其特征在于:包括以下步骤:①化合物II与溴乙酸酯经过Blaise反应制备β-酮酸酯III;<img file="FDA00003588493800011.GIF" wi="1543" he="307" />式中,R<sub>1</sub>为<img file="FDA00003588493800012.GIF" wi="798" he="229" />甲基或三氟甲基;<img file="FDA00003588493800013.GIF" wi="186" he="217" />中的R<sub>4a</sub>是烷基、芳烷基、芳基或者环烷基;<img file="FDA00003588493800014.GIF" wi="184" he="181" />中的R<sub>5</sub>是氢、烷基、芳烷基、芳基、CF<sub>3</sub>、卤素或者硝基;<img file="FDA00003588493800015.GIF" wi="273" he="154" />中的Xa是氧或者硫;R<sub>2</sub>为烷基、芳烷基、芳基或者环烷基;②化合物III在有机硼试剂存在下,经过还原剂还原制备二羟基化合物IV;<img file="FDA00003588493800016.GIF" wi="1391" he="292" />有机硼试剂为二乙基甲氧基硼烷、三乙基硼或三丁基硼;还原剂为硼氢化钠或硼氢化钾;③对化合物IV进行羟基保护制备化合物V;<img file="FDA00003588493800021.GIF" wi="1383" he="283" />式中,P1、P2为羟基保护基;④化合物V经过氧化反应得到化合物I;<img file="FDA00003588493800022.GIF" wi="1441" he="280" />式中,氧化剂为过氧化物。
地址 312500 浙江省绍兴市新昌县羽林街道新昌大道东路800号