发明名称 |
石墨烯纳米窄带的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种石墨烯纳米窄带的制备方法,包括以下步骤:提供一金属基底;提供一碳纳米管拉膜结构,覆盖于该金属基底的一表面,该碳纳米管拉膜结构包括多个定向排列的碳纳米管束以及多个分布于所述碳纳米管束之间的带状间隙;利用离子植入工艺将碳离子透过该碳纳米管拉膜结构的带状间隙植入到所述金属基底内;对该金属基底进行退火处理,获得多个定向排列的石墨烯纳米窄带;以及利用超声处理的方法,将碳纳米管拉膜结构与获得的石墨烯纳米窄带分离。 |
申请公布号 |
CN103359722A |
申请公布日期 |
2013.10.23 |
申请号 |
CN201210096865.3 |
申请日期 |
2012.04.05 |
申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
发明人 |
林晓阳;姜开利;范守善 |
分类号 |
C01B31/04(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
主分类号 |
C01B31/04(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种石墨烯纳米窄带的制备方法,包括以下步骤:提供一金属基底,该金属基底具有一第一表面;提供一碳纳米管拉膜结构,覆盖于该金属基底的第一表面,该碳纳米管拉膜结构包括多个定向排列的碳纳米管束以及多个分布于所述碳纳米管束之间的带状间隙;利用离子植入工艺将碳离子透过该碳纳米管拉膜结构的带状间隙植入到所述金属基底的第一表面内;对该金属基底进行退火处理,从而在该金属基底的第一表面获得多个定向排列的石墨烯纳米窄带;以及利用超声处理的方法,将该碳纳米管拉膜结构与获得的石墨烯纳米窄带分离。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 |