发明名称 用于形成薄层板的方法和设备
摘要 一种用于从施体生产层板的方法,包括用一定离子剂量注入施体并且在注入期间将该施体加热到注入温度。施体与基座组件分离地接触,其中该施体与该基座组件直接接触。通过向施体施加热剖面将层板从该施体剥落。注入和剥落条件可以调整以便将层板的无缺陷面积最大化。
申请公布号 CN103370800A 申请公布日期 2013.10.23
申请号 CN201180062986.X 申请日期 2011.12.20
申请人 GTAT公司 发明人 A.凯尔;R.克拉克-费尔普斯;J.D.吉莱斯皮;G.普拉布;T.萨卡斯;T.H.斯米克;S.祖尼加;S.巴巴比安
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张祥
主权项 一种从施体生产层板的方法,所述方法包含以下步骤:a.用离子剂量在施体的第一表面上注入从而形成解理面;b.在注入期间将所述施体加热到注入温度;c.将所述施体的所述第一表面分离地接触到基座组件的第一表面,其中所述施体的所述第一表面和所述基座组件的所述第一表面直接接触;d.向所述施体施加剥落温度从而在所述解理面将层板从所述施体剥落,其中所述施体的所述第一表面包含所述层板的第一表面;e.将所述层板从所述施体分离;以及f.调整剂量、注入温度、剥落温度和剥落压力的组合,从而在所述层板中将基本没有物理缺陷的面积最大化。
地址 美国新罕布什尔州