| 发明名称 | 双敏感光刻胶的方法和组成 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种敏感材料。该敏感材料包括响应于与酸的反应转变成可溶于碱液的聚合物；响应于辐射能分解以形成碱的多种光产碱剂(PBG)；以及响应于热能产生酸的热敏组分。本发明公开了方法和双敏感光刻胶的组成。 | ||
| 申请公布号 | CN103365078A | 申请公布日期 | 2013.10.23 |
| 申请号 | CN201210357267.7 | 申请日期 | 2012.09.21 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 吴振豪;张庆裕 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
| 主权项 | 一种双敏感材料，包括：聚合物，响应于与酸的反应转变成可溶于碱液；多种光产碱剂(PBG)，响应于辐射能分解以形成碱；以及热敏组分，响应于热能产生酸。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||