发明名称 一种发光二极管及其制造方法
摘要 本发明提供一种发光二极管及其制造方法,通过在包括N-GaN层、量子阱层及的P-GaN层的发光外延结构上制作一层具有按预设图形排列的孔洞,并且与所述P-GaN层形成非欧姆接触的图形导电薄膜,然后在所述图形导电薄膜上制作透明导电层,使所述透明导电层通过所述孔洞与所述P-GaN层形成欧姆接触,然后制备电极等后续工艺以完成所述发光二极管的制造。由于所述图形导电薄膜与所述P-GaN层形成非欧姆接触,只作为电流的扩展层,使电流密度在LED芯片内均匀流过,可以提高LED的发光效率,并有效抑制LED的衰退现象。本发明制造工艺步骤简单,效果显著,适用于工业生产。
申请公布号 CN103367559A 申请公布日期 2013.10.23
申请号 CN201210088308.7 申请日期 2012.03.29
申请人 上海蓝光科技有限公司 发明人 郝茂盛;张楠
分类号 H01L33/00(2010.01)I;H01L33/38(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 李仪萍
主权项 一种发光二极管的制造方法,其特征在于,至少包括步骤:1)提供一半导体衬底,并在所述半导体衬底上形成至少包括N‑GaN层、量子阱层及P‑GaN层的发光外延结构;2)在所述P‑GaN层上制作具有按预设图形排列的孔洞的图形导电薄膜,且使所述图形导电薄膜与所述P‑GaN层形成非欧姆接触;3)在所述图形导电薄膜及孔洞上制作透明导电层,并使所述透明导电层通过所述孔洞与所述P‑GaN层形成欧姆接触;4)制作P电极及N电极以完成所述发光二极管的制造。
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区芳春路400号