发明名称 | 一种极紫外辐照材料测试系统 | ||
摘要 | 本发明公开了一种极紫外辐照材料测试系统,EUV光源室用于容纳EUV光源,EUV光源用于辐射出宽谱近软X射线;滤波片室用于放置滤波片,滤波片用于将宽谱近软X射线滤波成窄谱EUV辐照;收集镜室用于放置收集镜,收集镜用于将EUV辐照汇聚到样品室中;光谱检测室用于安装一个反射镜和一个光谱仪,反射镜用于将来自收集镜室的EUV辐照反射到光谱议;样品室用于容纳所要测试的样品、CCD和能量计,并且能够使样品、CCD和能量计轮流移动至能够接受EUV辐照的同一位置。本发明能够得到不同样品的极紫外辐照损伤情况。 | ||
申请公布号 | CN103364401A | 申请公布日期 | 2013.10.23 |
申请号 | CN201310319441.3 | 申请日期 | 2013.07.26 |
申请人 | 中国科学院光电研究院 | 发明人 | 陈进新;吴晓斌;谢婉露;张罗莎;罗艳;王魁波 |
分类号 | G01N21/84(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/84(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 宋焰琴 |
主权项 | 一种极紫外辐照材料测试系统,其特征在于,包括EUV光源室(1)、滤波片室(2)、收集镜室(3)、光谱检测室(4)和样品室(6),其中所述EUV光源室(1)用于容纳EUV光源(11),该EUV光源(11)用于辐射出宽谱近软X射线;所述滤波片室(2)用于放置滤波片,该滤波片用于将所述宽谱近软X射线滤波成窄谱EUV辐照;所述收集镜室(3)用于放置收集镜(31),该收集镜(31)用于将所述EUV辐照汇聚到所述样品室(6)中;所述光谱检测室(4)用于安装一个反射镜(41)和一个光谱仪(42),所述反射镜(41)用于将来自收集镜室(3)的EUV辐照反射到所述光谱仪(42);所述样品室(6)用于容纳所要测试的样品(S)、CCD(616)和能量计(617),并且能够使样品(S)、CCD(616)和能量计(617)轮流移动至能够接受EUV辐照的同一位置。 | ||
地址 | 100094 北京市海淀区邓庄南路9号 |