发明名称 一种极紫外辐照材料测试系统
摘要 本发明公开了一种极紫外辐照材料测试系统,EUV光源室用于容纳EUV光源,EUV光源用于辐射出宽谱近软X射线;滤波片室用于放置滤波片,滤波片用于将宽谱近软X射线滤波成窄谱EUV辐照;收集镜室用于放置收集镜,收集镜用于将EUV辐照汇聚到样品室中;光谱检测室用于安装一个反射镜和一个光谱仪,反射镜用于将来自收集镜室的EUV辐照反射到光谱议;样品室用于容纳所要测试的样品、CCD和能量计,并且能够使样品、CCD和能量计轮流移动至能够接受EUV辐照的同一位置。本发明能够得到不同样品的极紫外辐照损伤情况。
申请公布号 CN103364401A 申请公布日期 2013.10.23
申请号 CN201310319441.3 申请日期 2013.07.26
申请人 中国科学院光电研究院 发明人 陈进新;吴晓斌;谢婉露;张罗莎;罗艳;王魁波
分类号 G01N21/84(2006.01)I 主分类号 G01N21/84(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 宋焰琴
主权项 一种极紫外辐照材料测试系统,其特征在于,包括EUV光源室(1)、滤波片室(2)、收集镜室(3)、光谱检测室(4)和样品室(6),其中所述EUV光源室(1)用于容纳EUV光源(11),该EUV光源(11)用于辐射出宽谱近软X射线;所述滤波片室(2)用于放置滤波片,该滤波片用于将所述宽谱近软X射线滤波成窄谱EUV辐照;所述收集镜室(3)用于放置收集镜(31),该收集镜(31)用于将所述EUV辐照汇聚到所述样品室(6)中;所述光谱检测室(4)用于安装一个反射镜(41)和一个光谱仪(42),所述反射镜(41)用于将来自收集镜室(3)的EUV辐照反射到所述光谱仪(42);所述样品室(6)用于容纳所要测试的样品(S)、CCD(616)和能量计(617),并且能够使样品(S)、CCD(616)和能量计(617)轮流移动至能够接受EUV辐照的同一位置。
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