发明名称 曝光装置及其制造方法
摘要 使基板(W)曝光以形成图案之曝光装置(100),具备:相距既定间隔设置之第1、第2机台(14,16),以及配置在两机台彼此间之空间内、包含复数个分别含高刚性零件之高刚性部(24,26,28)的曝光本体部(18)。据此,即使世代更替,亦能使用前一世代之模组(高刚性部)。
申请公布号 TWI412896 申请公布日期 2013.10.21
申请号 TW095149734 申请日期 2006.12.28
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 蛯原明光
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本