光固化式微奈米图案之接触转印方法

摘要

一种光固化式微奈米图案之接触转印方法。此方法包含下列步骤。提供模仁，其中模仁之表面包含图案结构，且此图案结构包含至少一凸出部与至少一凹陷部。形成转印材料层至少位于凸出部上。提供基板，其中此基板之表面设有感光型固化材料层。将凸出部上之转印材料层压合在感光型固化材料层上。对感光型固化材料层进行照射步骤，以固化感光型固化材料层，而将凸出部上之转印材料层固定在感光型固化材料层中。移除模仁。以转印材料层作为遮罩，对感光型固化材料层进行图案化步骤，直至暴露出基板之表面的一部分。