发明名称 |
半导体元件及其制作方法 |
摘要 |
一种双通道电晶体设于一基底上,前述基底具有一向第一方向延伸之第一浅沟渠隔离和一向第二方向延伸之第二浅沟渠隔离定义出主动区域,前述之双通道电晶体系设于主动区域上,双通道电晶体包含一闸极沟渠嵌入在主动区域,并且向第二方向延伸,一闸极位于闸极沟渠中向第二方向延伸,一第一源极/汲极区和一第二源极/汲极区位于闸极相对两侧之主动区域之上表面,一第一U形通道区域位于第一源极/汲极区,一第二U形通道区域位于第二源极/汲极区之间。 |
申请公布号 |
TWI413255 |
申请公布日期 |
2013.10.21 |
申请号 |
TW099117831 |
申请日期 |
2010.06.02 |
申请人 |
南亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |
发明人 |
吴铁将 |
分类号 |
H01L29/78;H01L27/108;H01L21/336;H01L21/28 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
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代理人 |
吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3;戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3 |
主权项 |
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地址 |
桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |