发明名称 元件的制作方法及有机半导体层之图案化方法
摘要 一种元件的制作方法,包括以下步骤:提供一基板,其上形成一有机半导体材料所组成之主动层,形成一图案化之感光层于主动层上,以一蒸气态之溶剂处理主动层,使图案化之感光层的图案转移至主动层,其中蒸气态之溶剂系渗入主动层中。
申请公布号 TWI413286 申请公布日期 2013.10.21
申请号 TW098104927 申请日期 2009.02.17
申请人 财团法人工业技术研究院 新竹县竹东镇中兴路4段195号 发明人 廖金龙;余建贤;何家充;颜精一
分类号 H01L51/00;H01L21/027 主分类号 H01L51/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号