| 摘要 |
L'invention s'applique à un procédé de projection d'un faisceau électronique utilisé notamment en lithographie par écriture directe ou indirecte ainsi qu'en microscopie électronique. Notamment pour les dimensions critiques ou résolutions inférieures à 50 nm, les effets de proximité créés par la diffusion vers l'avant et vers l'arrière des électrons du faisceau en interaction avec la cible doivent être corrigés. On utilise traditionnellement pour ce faire la convolution d'une fonction d'étalement de point avec la géométrie de la cible. Dans l'art antérieur, ladite fonction d'étalement de point utilise des lois de distribution gaussiennes. Selon l'invention, au moins une des composantes de la fonction d'étalement de point est une combinaison linéaire de fonctions de Voigt et/ou de fonctions approchant des fonctions de Voigt, telles que les fonctions de Pearson VII. Dans certains modes de réalisation, certaines des fonctions sont centrées sur les pics de diffusion du rayonnement vers l'arrière. |
