| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur plasmaunterstützten Beschichtung eines Behälters, beispielsweise einer Kunststoffflasche, und/oder einer Behältervorform, z.B. eines Vorformlings, beinhaltend, wenigstens eine Hochfrequenzquelle (216), wenigstens eine Gaszufuhr zur Zufuhr von Prozessgas (216), und wenigstens eine Plasmaquelle (200), z.B. eine Plasmadüse, wobei die Plasmaquelle eine innere Elektrode (205) aufweist, und die innere Elektrode (205) von einem Düsenrohr (220) umgeben ist, die wenigstens eine Plasmaquelle (200) in einen zu beschichtenden Behälter einführbar ist, und so konfiguriert ist, dass sie ein Plasma (204) unter Umgebungsdruck, beispielsweise in einem Druckbereich von 800 bis 1200 hPa, erzeugen kann, und das Plasma aus einem Düsenrohrende (203) austreten kann, und wobei die Temperatur des erzeugten Plasmas im Bereich der Umgebungstemperatur, z.B. zwischen 10 und 50 °C, liegt, dadurch gekennzeichnet, dass das Düsenrohr (220) der Plasmaquelle (200) ein longitudinales Düsenrohrelement (201) und ein seitliches Düsenrohrelement (202) aufweist, wobei das seitliche Düsenrohrelement (202) seitlich vom longitudinalen Düsenrohrelement (201) abragt, und Plasma durch das seitliche Düsenrohrende (203) austreten kann.</p> |
