发明名称 用来提高材料的发射率的系统和方法
摘要 本发明揭示了一种用来提高固体材料的发射率的系统和方法,首先对所述材料的表面进行机械处理,以形成微型缺陷,然后进行蚀刻,以形成深的微型粗糙表面结构。通过这种方式,当这些经改良的材料被用于加热元件的时候,可以获得较高的效率和较低的能耗。因此根据该方法制造的改进的加热元件在用于各种加热装置的时候,能够在较低温度下操作,具有较长的寿命。
申请公布号 CN101119859B 申请公布日期 2013.10.16
申请号 CN200480043268.8 申请日期 2004.10.19
申请人 维高仪器股份有限公司 发明人 V·博古斯拉夫斯基;A·古拉里
分类号 F23D14/12(2006.01)I;H05B3/00(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I 主分类号 F23D14/12(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 张宜红
主权项 一种提高难熔金属材料的发射率的方法,该方法包括:对所述难熔金属材料的至少一个表面进行机械处理,以使所述金属局部变形并形成微观缺陷;以及对所述难熔金属材料处理过的表面进行蚀刻,以优选除去所述缺陷处的金属,从而提高其发射率,而不向所述难熔金属中引入另外的化学元素,该优选除去所述缺陷处的金属在所述表面上形成微观的凹槽的网络,其中,所述凹槽的网络暴露在所述表面上,所述难熔金属的发射率通过暴露在所述表面上的凹槽的网络提高,并且所述难熔金属是辐射加热元件或半导体反应器的部件。
地址 美国纽约州