真空处理设备和真空处理方法

摘要

本发明涉及真空处理设备和真空处理方法，用于执行等离子体法，在真空室(1)中进行处理，真空室内设有用于产生低压弧光放电(15)(NVBE)的、包括阴极(10)和可通过电弧发生器与阴极电连接的阳极(13)的装置、可与偏压发生器(16)电连接且用于容放和移动工件(2)的工件支架(7)、以及至少一个用于惰性气体和/或反应气体的供应管路(8)，其中，阳极表面的至少一部分由石墨制成并且在高温下工作。

主权项

一种用于执行等离子体法的真空处理设备，其中所述真空处理设备包括至少一个真空室，真空室中设有用于产生低压弧光放电的、包括阴极和能够通过电弧发生器与阴极电连接的阳极的装置、能够与偏压发生器电连接且容放和移动工件的工件支架、以及至少一个用于惰性气体和/或反应气体的供应管路，其特征是，阳极表面的至少一部分由石墨制成，并且构造基材支架以及用于产生低压弧光放电的装置，使得借助于偏压发生器施加的基材电压和低压弧光放电彼此电气分离。