一种磁控溅射可钢化双银LOW-E 玻璃及制备该玻璃的方法

摘要

本发明公开了一种磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地磁控溅射有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层，第二层为TiO2层，第三层为CrNx层，第四层为ZnO层，第五层为Ag层，第六层为NiCrOy层，第七层为TiO2层，第八层为ZnSn3O4层，第九层为ZnO层，第十层为Ag层，第十一层为NiCrOy层，第十二层为TiO2层，最外层为Si3N4Oy层。本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀的磁控溅射可钢化双银LOW-E玻璃，本发明还提供一种磁控溅射法制备可钢化双银LOW-E玻璃的方法。

主权项

一种磁控溅射可钢化双银LOW‑E玻璃，包括有玻璃基片（1），其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地磁控溅射有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层（21），第二层为TiO2层（22），第三层为CrNx层（23），第四层为ZnO层（24），第五层为Ag层（25），第六层为NiCrOy层（26），第七层为TiO2层（27），第八层为ZnSn3O4层（28），第九层为ZnO层（29），第十层为Ag层（210），第十一层为NiCrOy层（211），第十二层为TiO2层（212），最外层为Si3N4Oy层（213）。